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HUAWEI DevEco Studio
面向HarmonyOS应用及元服务开发者提供的集成开发环境(IDE)， 助力高效开发。
HUAWEI DevEco Studio
面向HarmonyOS应用及元服务开发者提供的集成开发环境(IDE)， 助力高效开发。
DevEco Studio NEXT Developer Preview2
DevEco Studio NEXT Developer Preview2配套支持HarmonyOS Next Developer Preview 版本的应用及服务开发，新提供了代码重构、构建可视化分析、多场景深度调优、应用体检、ARM版本的本地模拟器等功能，持续提升应用及服务开发效率。
新增特性
代码重构
支持类、方法、变量等代码元素重命名、安全删除；支持将表达式、代码块、ArkUI界面布局一键提取到常量、方法或接口，或快速转换为更优的写法。
构建可视化分析
提供可视化方式分析构建过程信息，支持查看构建历史记录、构建任务图谱、构建日志记录。
运行时获取编译构建参数
支持通过Hvigor生成的类、以及在构建配置文件中增加自定义字段，在运行时获取自定义的参数。
ArkUI Inspector查看界面
ArkUI Inspector查看界面；支持查看应用UI布局、组件树层级构成及UI元素的属性；支持UI、组件树、属性之间相互关联；支持选中元素后关联源码。
场景化调优
支持应用启动耗时分析、卡顿丢帧原因深度分析、函数执行效率分析、内存资源占用情况分析、内存快照分析、CPU数据分析。
模拟器增强
提供Mac ARM版本的本地模拟器，支持HarmonyOS NEXT应用、元服务的调试和单元测试。
AppAnalyzer应用体检
支持兼容性、性能、UX测试和最佳实践的检测，根据检验结果评分。
预览支持自定义mock
提供mock框架，支持在预览运行时模拟界面依赖的数据和方法。关键特性
系统要求
Windows
操作系统：Windows 10/11 64 位
内存：8GB 及以上
硬盘：100GB 及以上
分辨率：1280*800 像素及以上
macOS
操作系统：macOS(X86) 10.15/11/12/13/14 macOS(ARM) 11/12/13/14
内存：8GB 及以上
硬盘：100GB 及以上
分辨率：1280*800 像素及以上
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